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美光 6 月遭遇 HBM3E 内存封装缺陷,影响向英伟达 H200 供货

7 月 12 日消息,韩国媒体报道指,美光的 HBM3E 内存在上 (6) 月遭遇封装缺陷,引起发热问题,影响了量产进程。

美光于 2 月 26 日宣布量产基于 1β 工艺的 HBM3E 内存,并从二季度开始向英伟达供货,用于 H200 AI GPU。

此外据台媒《工商时报》消息,英伟达 H200 芯片于二季度下旬进入量产阶段,预计三季度开始大规模交付。

韩媒表示,由于问题出现在 2.5D 封装层面而非 HBM 产品本身,美光在此次缺陷中应承担的责任并不大。

有分析认为,美光 HBM3E 内存出现问题是台积电在封装过程中使用了错误的材料所致。

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点击数:0 | 更新时间:2024-07-13 13:49:17
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